Himiâ vysokih ènergij
ISSN 0023-1193 (Print)
Мәзір
Мұрағат
Бастапқы
Журнал туралы
Редакция тобы
Редакция саясаты
Авторларға арналған ережелер
Журнал туралы
Шығарылымдар
Іздеу
Ағымдағы шығарылым
Ретракцияланған мақалалар
Мұрағат
Байланыс
Жазылу
Барлық журналдар
Пайдаланушы
Пайдаланушының аты
Құпиясөз
Мені есте сақтау
Құпия сөзді ұмыттыңыз ба?
Тіркеу
Хабарламалар
Қарау
Тіркелу
Іздеу
Іздеу
Іздеу аумағы
Барлығы
Авторлар
Атауы
Түйіндеме
Терминдер
Толық мәтін
Парақтау
шығарылымдар
авторлар
атаулары бойынша
бөлімдер бойынша
басқа журналдар
Категориялар
Жазылу
Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз
Кілтсөздер
PECVD
X-ray photoelectron spectroscopy
colloidal quantum dots
composite
degradation
dielectric barrier discharge
fluorescence
gallium oxide
gamma irradiation
hydrophobicity
kinetics
luminescence
nanoparticles
oxidation
plasma
radiolysis
strength
thin films
γ-облучение
лазерный фотолиз
триплетное состояние
Ағымдағы шығарылым
Том 58, № 6 (2024)
Ақпарат
Оқырмандар үшін
Авторларға
Кітапханалар үшін
×
Пайдаланушы
Пайдаланушының аты
Құпиясөз
Мені есте сақтау
Құпия сөзді ұмыттыңыз ба?
Тіркеу
Хабарламалар
Қарау
Тіркелу
Іздеу
Іздеу
Іздеу аумағы
Барлығы
Авторлар
Атауы
Түйіндеме
Терминдер
Толық мәтін
Парақтау
шығарылымдар
авторлар
атаулары бойынша
бөлімдер бойынша
басқа журналдар
Категориялар
Жазылу
Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз
Кілтсөздер
PECVD
X-ray photoelectron spectroscopy
colloidal quantum dots
composite
degradation
dielectric barrier discharge
fluorescence
gallium oxide
gamma irradiation
hydrophobicity
kinetics
luminescence
nanoparticles
oxidation
plasma
radiolysis
strength
thin films
γ-облучение
лазерный фотолиз
триплетное состояние
Ағымдағы шығарылым
Том 58, № 6 (2024)
Ақпарат
Оқырмандар үшін
Авторларға
Кітапханалар үшін
Бастапқы
>
Іздеу
>
Автор туралы ақпарат
Автор туралы ақпарат
Мочалов, Л. А.
Шығарылым
Бөлім
Атауы
Файл
Том 58, № 3 (2024)
PLASMA CHEMISTRY
Direct One-Stage Plasma Chemical Synthesis of Nanostructured Thin Films of the System β-Ga
2
O
3
-GaN of Different Composition
Том 58, № 4 (2024)
PLASMA CHEMISTRY
Gallium selenide thin films grown on silicon by plasma-enhanced chemical vapor deposition
Том 57, № 6 (2023)
PLASMA CHEMISTRY
Investigation of the Plasma-Chemical Synthesis of Thin Ga2O3 Films Doped with Zn in One Step in Plasma
Том 57, № 6 (2023)
PLASMA CHEMISTRY
Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Thin GaS Films on Various Types of Substrates
Том 57, № 5 (2023)
PLASMA CHEMISTRY
A Study on the Process of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of (AlxGa1 – x)2O3 Thin Films
TOP