English
Kazakh
Português (Brasil)
Русский
简体中文
Himiâ vysokih ènergij
ISSN 0023-1193 (Print)
Мәзір     Мұрағат
  • Бастапқы
  • Журнал туралы
    • Редакция тобы
    • Редакция саясаты
    • Авторларға арналған ережелер
    • Журнал туралы
  • Шығарылымдар
    • Іздеу
    • Ағымдағы шығарылым
    • Ретракцияланған мақалалар
    • Мұрағат
  • Байланыс
  • Жазылу
  • Барлық журналдар
Пайдаланушы
Құпия сөзді ұмыттыңыз ба? Тіркеу
Хабарламалар
  • Қарау
  • Тіркелу
Іздеу
Парақтау
  • шығарылымдар
  • авторлар
  • атаулары бойынша
  • бөлімдер бойынша
  • басқа журналдар
  • Категориялар
Жазылу Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз
Кілтсөздер PECVD X-ray photoelectron spectroscopy colloidal quantum dots composite degradation dielectric barrier discharge fluorescence gallium oxide gamma irradiation hydrophobicity kinetics luminescence nanoparticles oxidation plasma radiolysis strength thin films γ-облучение лазерный фотолиз триплетное состояние
Ағымдағы шығарылым

Том 58, № 6 (2024)

Ақпарат
  • Оқырмандар үшін
  • Авторларға
  • Кітапханалар үшін
×
Пайдаланушы
Құпия сөзді ұмыттыңыз ба? Тіркеу
Хабарламалар
  • Қарау
  • Тіркелу
Іздеу
Парақтау
  • шығарылымдар
  • авторлар
  • атаулары бойынша
  • бөлімдер бойынша
  • басқа журналдар
  • Категориялар
Жазылу Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз
Кілтсөздер PECVD X-ray photoelectron spectroscopy colloidal quantum dots composite degradation dielectric barrier discharge fluorescence gallium oxide gamma irradiation hydrophobicity kinetics luminescence nanoparticles oxidation plasma radiolysis strength thin films γ-облучение лазерный фотолиз триплетное состояние
Ағымдағы шығарылым

Том 58, № 6 (2024)

Ақпарат
  • Оқырмандар үшін
  • Авторларға
  • Кітапханалар үшін
Бастапқы > Іздеу > Автор туралы ақпарат

Автор туралы ақпарат

Мочалов, Л. А.

Шығарылым Бөлім Атауы Файл
Том 58, № 3 (2024) PLASMA CHEMISTRY Direct One-Stage Plasma Chemical Synthesis of Nanostructured Thin Films of the System β-Ga2O3-GaN of Different Composition
Том 58, № 4 (2024) PLASMA CHEMISTRY Gallium selenide thin films grown on silicon by plasma-enhanced chemical vapor deposition
Том 57, № 6 (2023) PLASMA CHEMISTRY Investigation of the Plasma-Chemical Synthesis of Thin Ga2O3 Films Doped with Zn in One Step in Plasma
Том 57, № 6 (2023) PLASMA CHEMISTRY Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Thin GaS Films on Various Types of Substrates
Том 57, № 5 (2023) PLASMA CHEMISTRY A Study on the Process of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of (AlxGa1 – x)2O3 Thin Films
 

JOURNALS

Journal list

Search Articles

Manuscript submission

Services for Authors

LEGAL INFORMATION

User's personal data processing consent

Privacy statement

End user license agreement

Policy on distribution of notifications and marketing information

INFORMATION

Publisher's Blog

SERVICES

Subscription

Advertisement

Help with the site

CONTACTS Eco-Vector

Aptekarskiy per, d. 3, lit. A, office 1H, 191181 Saint-Petersburg, Russia

Phone: +7 (812) 648 8367

Email: info@eco-vector.com

SUBSCRIPTION

Phone: +7 (495) 409 8339

Email: podpiska@eco-vector.com

 

Developed by ECO-VECTOR

 

Powered by EVESYST

TOP