Определение констант и построение полевых зависимостей параметров структур металл-окисел-полупроводник со сверхтонкими слоями окисла кремния по их экспериментальным высокочастотным вольт-фарадным характеристикам
- Авторы: Белорусов Д.А.1, Гольдман Е.И.1, Чучева Г.В.1, Шушарин И.А.1
- 
							Учреждения: 
							- Институт радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН
 
- Выпуск: Том 69, № 7 (2024)
- Страницы: 656-663
- Раздел: НАНОЭЛЕКТРОНИКА
- URL: https://cardiosomatics.ru/0033-8494/article/view/681462
- DOI: https://doi.org/10.31857/S0033849424070076
- EDN: https://elibrary.ru/HYVSYW
- ID: 681462
Цитировать
Полный текст
 Открытый доступ
		                                Открытый доступ Доступ предоставлен
						Доступ предоставлен Доступ платный или только для подписчиков
		                                							Доступ платный или только для подписчиков
		                                					Аннотация
Разработан алгоритм определения из экспериментальных полевых зависимостей высокочастотного импеданса кремниевых структур со сверхтонким (менее 5 нм) слоем SiО2 емкости изолирующего промежутка и концентрации легирующей примеси непосредственно у границы раздела Si–SiО2. Получены соотношения, позволяющие оценить предельные погрешности развитого подхода. Предложенный метод применен к экспериментальным характеристикам структуры металл–окисел–полупроводник с толщиной SiО2 4.2 нм. Показано, что разработанный алгоритм имеет достаточно высокие точность и доступность для использования при обработке данных высокочастотных измерений.
Полный текст
 
												
	                        Об авторах
Д. А. Белорусов
Институт радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН
														Email: gvc@ms.ire.rssi.ru
				                					                																			                								
Фрязинский филиал
Россия, пл. Введенского, 1, Фрязино Московской обл., 141190Е. И. Гольдман
Институт радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН
														Email: gvc@ms.ire.rssi.ru
				                					                																			                								
Фрязинский филиал
Россия, пл. Введенского, 1, Фрязино Московской обл., 141190Г. В. Чучева
Институт радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН
							Автор, ответственный за переписку.
							Email: gvc@ms.ire.rssi.ru
				                					                																			                								
Фрязинский филиал
Россия, пл. Введенского, 1, Фрязино Московской обл., 141190И. А. Шушарин
Институт радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН
														Email: gvc@ms.ire.rssi.ru
				                					                																			                								
Фрязинский филиал
Россия, пл. Введенского, 1, Фрязино Московской обл., 141190Список литературы
- Zwanenburg F.A., Dzurak A.S., Morello A. et al. // Rev. Mod. Phys. 2013. V. 85. № 3. P. 961. doi: 10.1103/RevModPhys.85.961.
- Черняев М.В., Горохов С.А., Патюков С.И., Резванов А.А. // Электрон. техника. Сер. 3. Микроэлектроника. 2022. № 3. С. 31. doi: 10.7868/S2410993222030058.
- Muller D.A., Sorsch T., Moccio S. et al. // Nature. 1999. V. 399. № 6738. P. 758. doi: 10.1038/21602.
- Sze S.M., Kwok K. Ng. Physics of Semiconductor Devices. 3rd ed. N.Y.: John Willey @ Sons, 2007.
- Nicollian E.H., Brews I.R. MOS (Metal Oxide Semiconductor) Physics and Technology. N.Y.: John Willey @ Sons, 1982.
- Гольдман Е.И., Кухарская Н.Ф., Левашов С.А., Чучева Г.В. // ФТП. 2019. Т. 53. № 1. С. 46. doi: 10.21883/FTP.2019.01.46985.8802.
- Бонч-Бруевич В.Л., Звягин И.П., Кайпер Р. и др. Электронная теория неупорядоченных полупроводников. М.: Наука, 1981. С. 22.
- Шкловский Б.И., Эфрос А.Л. Физика полупроводников и полупроводниковых приборов. Электронные свойства легированных полупроводников. М.: Наука, 1979. С. 316.
- Барабан А.П., Булавинов В.В., Коноров П.П. Электроника слоев на кремнии. Л.: Изд-во ЛГУ, 1988.
- Lonnum L.F., Johannessen J.S. // Electron. Lett. 1986. V. 22. № 9. P. 456. doi: 10.1049/el:19860310
- Kevin J.Y., Chenming H. // IEEE Trans. 1999. V. ED-46. № 7. P. 1500. doi: 10.1109/16.772500
Дополнительные файлы
 
				
			 
						 
						 
						 
					 
						 
									

 
  
  
  Отправить статью по E-mail
			Отправить статью по E-mail 





