Lokal'nye poverkhnostnye plazmonnye rezonansy v plenochnykh strukturakh Cu/As2Se3
- Authors: Kogay V.Y.1, Mikheev G.M1
- 
							Affiliations: 
							- Удмуртский федеральный исследовательский центр Уральского отделения РАН
 
- Issue: Vol 120, No 3-4 (2024)
- Pages: 197-202
- Section: Articles
- URL: https://cardiosomatics.ru/0370-274X/article/view/664392
- DOI: https://doi.org/10.31857/S0370274X24080061
- EDN: https://elibrary.ru/QYIHTH
- ID: 664392
Cite item
Abstract
Впервые синтезированы плазмонные наноструктуры в результате диффузии Cu в пленку As2Se3 при формировании пленочной структуры Cu/As2Se3 последовательным напылением в вакууме Cu и As2Se3. Методом спектроскопической эллипсометрии получены спектры коэффициентов экстинкции и показателя преломления, а также действительной и мнимой частей диэлектрической проницаемости синтезированных структур в диапазоне длин волн 240–2500 нм, свидетельствующие о наличии локализованных поверхностных плазмонных резонансов. Показано, что изменением толщины пленки меди и термическим отжигом можно управлять частотным положением плазмонных резонансов в диапазоне длин волн от 470 до 660 нм.
			                About the authors
V. Ya Kogay
Удмуртский федеральный исследовательский центр Уральского отделения РАН
														Email: vkogai@udman.ru
				                					                																			                												                								Ижевск, Россия						
G. M Mikheev
Удмуртский федеральный исследовательский центр Уральского отделения РАНИжевск, Россия
References
- S.A. Maier, Plasmonics: Fundamentals and Applications, Springer, N.Y. (2007).
- J. J. Mock, D.R. Smith, and S. Schultz, Nano Lett. 3, 485 (2003).
- S. Raza, W. Yan, N. Stenger, M. Wubs, and N.A. Mortensen, Opt. Express 21, 203 (2013).
- V. Amendola, O.M. Bakr, and S. Francesco, Plasmonics 5, 85 (2010).
- В.В. Климов, Наноплазмоника, Физматлит, М. (2009).
- M. I. Stockman, M. F. Kling, U. Kleineberg, and F. Krausz, Nat. Photonics 1, 539 (2007).
- D. J. Bergman and M. I. Stockman, Phys. Rev. Lett. 90, 027402 (2003).
- M.R. Beversluis, A. Bouhelier, and L. Novotny, Phys. Rev. 68, 115433 (2003).
- S. F. Bartolucci, A.C. Leff, and J.A. Maurer, Nanoscale Adv. 6, 2499 (2024).
- В.И. Емельянов, Н.И. Коротеев, УФН 135, 345 (1981).
- И.Р. Нибиев, Р. Г. Ефремов, Г.Д. Чуманов, УФН 154, 459 (1988).
- R. Pilot, C. Durante, L. Orian, M. Bhamidipati, and L. Fabris, Biosensors 9, 57 (2019).
- I. Boginskaya, A. Gainutdinova, A. Gusev, K. Mailyan, A. Mikhailitsyn, M. Sedova, A. Vdovichenko, A. Glushchenkov, A. Dorofeenko, and I. Ryzhikov, Coatings 11, 1171 (2021).
- N.N. Durmanov, R.R. Guliev, A.V. Eremenko et al. (Collaboration), Sensors Actuators B Chem. 257, 37 (2018).
- M. Li, S.K. Cushing, and N. Wu, Analyst 140, 386 (2015).
- M.D. Susman, Y. Feldman, T.A. Bendikov, A. Vaskevich, and I. Rubinstein, Nanoscale 9, 12573 (2017).
- G.H. Chan, J. Zhao, E.M. Hicks, G.C. Schatz, and R.P.V. Duyne, Nano Lett. 7, 1947 (2007).
- L.Wang, M.H. Kafshgari, and M. Meunier, Adv. Funct. Mater. 30, 2005400 (2020).
- А.К. Сарычев, А.В. Иванов, К.Н. Афанасьев, И.В. Быков, И.А. Богинская, И.Н. Курочкин, А.Н. Лагарьков, А.М. Мерзликин, В.В. Михеев, Д.В. Негров, И.А. Рыжиков, М.В. Седова, Квантовая электроника 48, 1147 (2018).
- J. Huang, X. Wang, X. L. Phuah, P. Lu, Z. Qi, and H. Wang, Mater. Today Nano 8, 100052 (2019).
- A.R. Indhu, C. Dharanya, and G. Dharmalingam, Plasmonics 19, 1303 (2024).
- A.E. Fateev, V. S. Antropova, V.Y. Kogai, R.G. Zonov, T.N. Mogileva, and G.M. Mikheev, Opt. Mater. (Amst). 151, 115361 (2024).
- Y.-M. Zhao, X.-G. Hu, C. Chen, Z.-H. Wang, A.-P. Wu, H.-W. Zhang, P.-X. Hou, C. Liu, and H.-M. Cheng, Nano Res. 17, 5930 (2024).
- C. Wei and Q. Liu, CrystEngComm 19, 3254 (2017).
- P. Liu, H. Wang, X. Li, M. Rui, and H. Zeng, RSC Adv. 5, 79738 (2015).
- S. Mohapatra, Y.K. Mishra, and A.M. Warrier, Plasmonics 7, 25 (2012).
- B. Karthikeyan, M. Anija, C. S. S. Sandeep, T.M.M. Nadeer, and R. Philip, Opt. Commun. 281, 2933 (2008).
- З.У. Борисова, Халькогенидные полупроводниковые стекла, Л. университет, Л. (1983).
- В.Я. Когай, Письма в ЖТФ 44, 3 (2018).
- T. Lunskens, P. Heister, M. Thamer, C.A. Walenta, A. Kartouzian, and U. Heiz, Phys. Chem. Chem. Physics, 17, 17541 (2015).
- N. Nilius, N. Ernst, and H. Freund, Phys. Rev. Lett. 84, 3994 (2000).
- C. S¨onnichsen, T. Franzl, T. Wilk, G. von Plessen, and J. Feldmann, Phys. Rev. Lett. 88, 077402 (2002).
- M. Piliarik, P. Kvasnicka, N. Galler, and J.R. Krenn, Opt. Express 19, 9213 (2011).
- M. Moskovits, J. Chern. Phys. 69, 4159 (1978).
- D. I. Yakubovsky, Y.V. Stebunov, R.V. Kirtaev, G.A. Ermolaev, M. S. Mironov, S.M. Novikov, A.V. Arsenin, and V. S. Volkov, Adv. Mater. Interfaces 6, 1900196 (2019).
- D. I. Yakubovsky, Y.V. Stebunov, R.V. Kirtaev, K.V. Voronin, A.A. Voronov, A.V. Arsenin, and V. S. Volkov, Nanomaterials 8, 1058 (2018).
- Л.А. Головень, В.Ю. Тимошенко, П.К. Кашкаров, УФН 177, 619 (2007).
- K.N. Afanasev, I.A. Boginskaya, A.V. Dorofeenko, A.V. Gysev, K.A. Mailyan, A.V. Pebalk, V.N. Chvalyn, S.A. Ozerin, M.V. Sedova, I.A.Rodionov, V.V.Pogosov, and I.A. Ryzhikov, IEEE Trans. Nanotechnol. 16, 274 (2017).
Supplementary files
 
				
			 
					 
						 
						 
						 
						 
									

 
  
  
  Email this article
			Email this article 

 Open Access
		                                Open Access Access granted
						Access granted Subscription or Fee Access
		                                							Subscription or Fee Access
		                                					