Технологические способы снижения температуры спекания керамики на основе кубического пирохлора
- Авторы: Мараховский М.А.1, Таланов М.В.2
- 
							Учреждения: 
							- ФГАОУ ВО «Южный федеральный университет», Институт высоких технологий и пьезотехники
- ФГАОУ ВО «Московский физико-технический институт (Национальный исследовательский университет)»
 
- Выпуск: Том 88, № 5 (2024)
- Страницы: 800-804
- Раздел: Физика сегнетоэлектриков
- URL: https://cardiosomatics.ru/0367-6765/article/view/654688
- DOI: https://doi.org/10.31857/S0367676524050175
- EDN: https://elibrary.ru/QEEHYQ
- ID: 654688
Цитировать
Полный текст
 Открытый доступ
		                                Открытый доступ Доступ предоставлен
						Доступ предоставлен Доступ платный или только для подписчиков
		                                							Доступ платный или только для подписчиков
		                                					Аннотация
Впервые методом искрового плазменного спекания получена керамика системы Bi2O3-ZnO-Nb2O5 (кубический пирохлор), обладающая однородной микроструктурой, высокой плотностью и диэлектрическими параметрами (больше на 30% в сравнении с аналогичными для традиционных керамических технологий). Изучены механизмы формирования керамического каркаса и оптимизированы технологические режимы спекания.
Ключевые слова
Полный текст
 
												
	                        Об авторах
М. А. Мараховский
ФГАОУ ВО «Южный федеральный университет», Институт высоких технологий и пьезотехники
							Автор, ответственный за переписку.
							Email: marmisha@mail.ru
				                					                																			                												                	Россия, 							Ростов-н а-Дону						
М. В. Таланов
ФГАОУ ВО «Московский физико-технический институт (Национальный исследовательский университет)»
														Email: marmisha@mail.ru
				                					                																			                												                	Россия, 							Москва						
Список литературы
- Du H., Yao X. // Mater. Res. Bull. 2005. V. 40. No. 9. P. 1527.
- Cann D.P., Randall C.A., Shrout T.R. // Solid State Commun. 1996. V. 100. No. 7. P. 529.
- Baker A., Lanagan M., Randall C. et al. // Int. J. Appl. Ceram. Technol. 2005. V. 2. No. 6. P. 514.
- Nino J.C. // J. Appl. Phys. 2001. V. 89. No. 8. P. 4512.
- Levin I., Amos T.G., Nino J.C. et al. // J. Solid State Chem. 2002. V. 168. No. 1. P. 69.
- Liu D., Liu Yi., Huang Sh.Q. et al. // J. Amer. Ceram. Soc. 1993. V. 76. P. 2129.
- Wang X., Wang H., Yao X. // J. Amer. Ceram. Soc. 1997. V. 80. P. 2745.
- Melot B., Rodriguez E., Proffen Th. et al. // Mater. Res. Bull. 2006. V. 41. No. 5. P. 961.
- Kamba S., Porokhonskyy V., Pashkin A. et al. // Phys. Rev. B, 2002. V. 66. No. 5. P. 054106.
- Radosavljevic I., Evans J., Sleight A. // J. Solid State Chem. 1998. V. 136. No. 1. P. 63.
- Bush A.A., Talanov M.V., Stash A.I. et al. // Cryst. Growth Des. 2020. V. 20. No. 2. P. 824.
- Liu Y., Withers R.L., Nguyen H.B. et al. // J. Solid State Chem. 2009. V. 182. No. 10. P. 2748.
- Nino J.C., Lanagan M.T., Randall C.A. // J. Appl. Phys. 2001. V. 89. Art. No. 4512.
- Liang K., Gao L., Fang Z. et al. // J. Eur. Ceram. 2021. V. 41. P. 3425.
- Youn H.-J., Sogabe T., Randall C.A. et al. // J. Amer. Ceram. Soc. 2001. V. 84. No. 11. P. 2557.
- Talanov M.V. // In: Pyrochlore ceramics: properties, processing, and applications. Elsevier Series on Advanced Ceramic Materials. 2022. P. 295.
- Valant M., Davies P.K. // J. Mater. Sci. 1999. V. 34. No. 5437.
- Chen Y., Qi J., Zhang M. et al. // J. Adv. Ceram. 2022. V. 11. No. 7. P. 1179.
- Tagantsev A.K., Lu J., Stemmer S. // Appl. Phys. Lett. 2005. V. 86. No. 3. Art. No. 032901.
- Wang R., Xie R., Sekiya T., Shimojo Y. // Mater. Res. Bull. 2004. V. 39. No. 11. P. 1709.
- Han B., Zhao C., Zhu Z-X. et al. // ACS Appl. Mater. Interfaces. 2017. V. 9. No. 39. P. 34078.
- Marakhovsky M.A., Panich A.A., Talanov M.V. et. al // Ferroelectrics. 2021. V. 575. No. 1. P. 43.
- Marakhovsky M.A., Panich A.A., Talanov M.V., Marakhovsky V.A. // Ferroelectrics. 2020. V. 560. No. 1. P. 1.
- Niemiec P., Bochenek D., Brzezinska D. // Ceram. Int. 2023. V.49. No. 22. P. 35687.
- Wang T., Zhang H., Cheng L. et al. // Ceram. Int. 2022. V. 48. No. 9. P. 12800.
- Мараховский М.А., Таланов М.В., Панич А.А. // Изв. РАН. Сер. физ. 2023. Т. 87. № 9. С. 1279; Marakhovskiy M.A., Talanov M.V., Panich A.A. // Bull. Russ. Acad. Sci. Phys. 2023. V. 87. No. 9. P. 1317.
- Мараховский М.А., Панич А.А., Таланов М.В., Мараховский В.А. // Изв. РАН. Сер. физ. 2020. Т. 84. № 11. С. 1667; Marakhovsky M.A., Panich A.A., Talanov M.V., Marakhovsky V.A. // Bull. Russ. Acad. Sci. Phys. 2020. V. 84. No. 11. P. 1419.
- Valant M., Davies P.K. // J. Amer. Ceram. Soc. 2000. V. 83. No. 1. P. 147.
- Fruth V., Ianculescu A., Berger D. et al. // J. Eur. Ceramic. 2006. V. 26. No. 14. P. 3011.
- Cavaliere P., Sadeghi B., Shabani A. // In: Spark plasma sintering of materials. Advances in processing and applications. Cham: Springer, 2019. P. 3.
- Zhang Z.H., Wang F.C., Wang L. et al. // Mater. Charact. 2008. V. 59. No. 3. P. 329.
Дополнительные файлы
 
				
			 
						 
						 
						 
					 
						 
									

 
  
  
  Отправить статью по E-mail
			Отправить статью по E-mail 




