Синтез в СВЧ-плазме алмазных пленок со сниженной шероховатостью

Обложка

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

Изучается влияние добавок азота на вторичное зародышеобразование (нуклеацию) алмаза при его синтезе методом химического осаждения из газовой фазы (CVD). Серия поликристаллических алмазных пленок толщиной 2 мкм была выращена на кремниевых подложках в газовых смесях метан–водород–азот с различной концентрацией азота (0–1%). Структура и шероховатость выращенных пленок были исследованы с помощью сканирующей электронной микроскопии и оптической профилометрии. Показано, что малые добавки азота играют ключевую роль в процессах вторичной нуклеации алмаза, оказывая значительное влияние на морфологию пленок. Сравнение характеристик выращенных поликристаллических алмазных пленок позволило найти оптимальную концентрацию азота [N2] ≈ 0.2% для формирования нанокристаллических алмазных пленок с низкой шероховатостью поверхности и повышенной скоростью роста. Полученные результаты предполагается использовать для оптимизации параметров CVD-синтеза поликристаллических алмазных пленок для применения в качестве защитных или снижающих трение слоев, а также для изготовления сверхтвердых режущих инструментов.

Полный текст

Доступ закрыт

Об авторах

А. К. Мартьянов

Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук

Автор, ответственный за переписку.
Email: martyanov@nsc.gpi.ru
Россия, Москва

И. А. Тяжелов

Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук

Email: martyanov@nsc.gpi.ru
Россия, Москва

С. С. Савин

Наноцентр МИРЭА – Российский технологический университет

Email: martyanov@nsc.gpi.ru
Россия, Москва

А. Ф. Попович

Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук

Email: martyanov@nsc.gpi.ru
Россия, Москва

В. С. Седов

Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук

Email: martyanov@nsc.gpi.ru
Россия, Москва

В. И. Конов

Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук

Email: martyanov@nsc.gpi.ru

академик РАН

Россия, Москва

Список литературы

  1. Lucca D.A., Klopfstein M.J., Riemer O. Ultra-precision machining: cutting with diamond tools // J. Manufacturing Science and Engineering. 2020. V. 142. № 11. P. 110817.
  2. Abdullah M.F., Hussin M.R.M., Ismail M.A., et al. Chip-level thermal management in GaN HEMT: Critical review on recent patents and inventions // Microelectronic Engineering. 2023. P. 111958.
  3. Dobrinets I.A., Vins Victor.G., Zaitsev A.M. HPHT-Treated Diamonds: Diamonds Forever. 2013accessed. V. 181.
  4. Sedov V.S., Martyanov A.K., Khomich A.A., et al. Deposition of diamond films on Si by microwave plasma CVD in varied CH4-H2 mixtures: Reverse nanocrystalline-to-microcrystalline structure transition at very high methane concentrations // Diamond and Related Materials. 2020. V. 109. P. 108072.
  5. Mandal S. Nucleation of diamond films on heterogeneous substrates: a review // RSC Adv. 2021. V. 11. № 17. P. 10159–10182.
  6. Butler J.E., Cheesman A., Ashfold M.N.R. Recent progress in the understanding of CVD growth of diamond // CVD Diamond for Electronic Devices and Sensors. 2009. P. 103–124.
  7. Drift A. Van der. Evolutionary selection, a principle governing growth orientation in vapour-deposited layers // Philips Res. Rep. 1967. V. 22. № 3. P. 267.
  8. Ralchenko V.G., Pleuler E., Lu F.X., et al. Fracture strength of optical quality and black polycrystalline CVD diamonds // Diamond and Related Materials. 2012. V. 23. P. 172–177.
  9. Aslantas K., Hopa H.E., Percin M., et al. Cutting performance of nano-crystalline diamond (NCD) coating in micro-milling of Ti6Al4V alloy // Precision Engineering. 2016. V. 45. P. 55–66.
  10. Kulisch W., Popov C. On the growth mechanisms of nanocrystalline diamond films // physica status solidi (a). 2006. V. 203. № 2. P. 203–219.
  11. Fuentes-Fernandez E.M.A., Alcantar-Peña J.J., Lee G., et al. Synthesis and characterization of microcrystalline diamond to ultrananocrystalline diamond films via Hot Filament Chemical Vapor Deposition for scaling to large area applications // Thin Solid Films. 2016. V. 603. P. 62–68.
  12. Bénédic F., Belmahi M., Elmazria O., et al. Investigations on nitrogen addition in the CH4–H2 gas mixture used for diamond deposition for a better understanding and the optimisation of the synthesis process // Surface and Coatings Technology. 2003. V. 176. № 1. P. 37–49.
  13. Asmussen J., Mossbrucker J., Khatami S., et al. The effect of nitrogen on the growth, morphology, and crystalline quality of MPACVD diamond films // Diamond and Related Materials. 1999. V. 8. № 2. P. 220–225.
  14. Мартьянов А.К., Седов В.С., Заведеев Е.В. и др. Синтез мультислойных алмазных пленок в СВЧ плазме в режимах с периодической инжекцией азота // Доклады РАН. Физика, технические науки. 2021. Т. 496. С. 44–47.
  15. Sedov V., Martyanov A., Altakhov A., et al. Effect of Substrate Holder Design on Stress and Uniformity of Large-Area Polycrystalline Diamond Films Grown by Microwave Plasma-Assisted CVD // Coatings. 2020. V. 10. № 10. P. 939.

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML
2. Рис. 1. Изображения РЭМ ПКА пленок, синтезированных при температуре подложки Ts = 850 °С и различных концентрациях азота νN.

Скачать (204KB)
3. Рис. 2. Скорость роста ПКА пленок, синтезированных при различных концентрациях азота νN.

Скачать (91KB)
4. Рис. 3. Значения “среднеквадратичной высоты поверхности” (RMS) алмазных пленок, выращенных при различных концентрациях азота νN.

Скачать (97KB)

© Российская академия наук, 2024